ASML公司CEO：中國光刻機已經(jīng)到了生死存亡關(guān)頭，他們一定會加速自主研發(fā)

2026年的全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，正在進入一個極其矛盾的時代。

一邊，是AI、機器人、衛(wèi)星互聯(lián)網(wǎng)掀起的新一輪芯片需求狂潮；另一邊，則是美國不斷升級的技術(shù)封鎖，試圖把中國擋在先進半導(dǎo)體體系之外。但越來越多西方企業(yè)發(fā)現(xiàn)，一個現(xiàn)實正在出現(xiàn)：越封鎖，中國越會加速自主研發(fā)。

最近，全球光刻機龍頭 ASML CEO克里斯托夫·富凱在接受路透社采訪時，說出了一句意味深長的話：如果我把你放到沙漠里，并且告訴你再也不會有食物來源，你會多久開始自己種糧食？這是一個存亡問題。

這句話，幾乎已經(jīng)把中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)如今的處境說透了。因為對于中國來說，光刻機，已經(jīng)不只是產(chǎn)業(yè)競爭問題，而是生存問題。

過去幾年，美國不斷聯(lián)合盟友，對中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)實施層層封鎖。最核心的目標(biāo)，就是光刻機。因為所有先進芯片的制造，都繞不開光刻機。而在高端光刻機領(lǐng)域，全球真正具備統(tǒng)治力的企業(yè)，只有 ASML。尤其是在EUV（極紫外）光刻機領(lǐng)域，ASML幾乎是全球唯一供應(yīng)商。

從2019年開始，美國便推動荷蘭禁止ASML向中國出售EUV光刻機；隨后限制進一步擴大，連部分先進DUV浸潤式光刻機也被納入出口管制。如今，美國甚至試圖通過MATCH法案，把盟友全部綁定到美國的出口管制體系中。

美國不僅自己限制中國，還要求全世界一起限制中國。而ASML，恰恰被推到了風(fēng)暴中心。

富凱此次公開表態(tài)，其實已經(jīng)說明了ASML內(nèi)部的真實擔(dān)憂：如果繼續(xù)極限封鎖，中國一定會自己造。這不是情緒判斷，而是產(chǎn)業(yè)規(guī)律。

很多人沒有意識到，美國對中國半導(dǎo)體的制裁，其實已經(jīng)出現(xiàn)了明顯的反作用。因為技術(shù)封鎖有一個規(guī)律：如果差距只是3年、5年，被封鎖方可能會選擇繼續(xù)購買；但如果差距被人為拉大到永遠無法獲得，那對方一定會選擇自主研發(fā)。

富凱其實已經(jīng)把這層邏輯說得非常直白。他公開表示：ASML目前賣給中國的DUV設(shè)備，本身就是2015年的技術(shù)平臺。進一步限制，只會加速中國研發(fā)自主替代設(shè)備。

ASML前CEO溫寧克此前也多次警告，美國如果持續(xù)封鎖，中國最終一定會研發(fā)出自己的光刻機體系。因為沒有任何一個工業(yè)大國，會接受自己永遠被卡脖子。尤其是中國。

過去很多人一提到國產(chǎn)光刻機，第一反應(yīng)就是：和ASML差距太大。這當(dāng)然是事實。但真正的問題不是有沒有差距，而是：差距是在擴大，還是在縮小？而現(xiàn)實是，中國正在快速縮小差距。

目前，中國已經(jīng)形成了較完整的國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備體系。刻蝕設(shè)備有北方華創(chuàng)；薄膜沉積有中微公司；檢測設(shè)備有精測電子；EDA領(lǐng)域有華大九天；光刻機領(lǐng)域，則有上海微電子裝備（SMEE）。

尤其是在DUV浸潤式光刻機方向，中國已經(jīng)不再停留于實驗室階段。中國正在完成從干式光刻到浸潤式光刻的關(guān)鍵跨越。而這一步，曾經(jīng)被認(rèn)為至少需要十年以上。

更關(guān)鍵的是，中國并不是單點突破，而是整個產(chǎn)業(yè)鏈同時推進。從光源、雙工件臺、超精密運動系統(tǒng)，到光刻膠、硅片、電子氣體、EDA工具，中國都在同步推進國產(chǎn)化。今年3月，中國多位半導(dǎo)體企業(yè)負(fù)責(zé)人聯(lián)合呼吁，要在“2026—2030”期間集中資源打造“中國版ASML”。這已經(jīng)不是企業(yè)行為，而是國家級產(chǎn)業(yè)工程。

歷史上，很多工業(yè)強國，都是被外部壓力逼出來的。今天的中國半導(dǎo)體，也正在經(jīng)歷類似過程。過去，中國企業(yè)可以買設(shè)備、買技術(shù)、買供應(yīng)鏈；現(xiàn)在，美國試圖徹底堵死這條路。于是，中國只能自己建體系。

今天的中國光刻機，確實還落后。這一點必須承認(rèn)。但更重要的是：中國已經(jīng)不再停留于看不到希望的階段。

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