ASML CEO再談光刻機：中國只能獲得11年前的設備，已到了存亡時期

前沿導讀

據(jù)《觀察者網》新聞指出，荷蘭ASML公司CEO克里斯托弗·富凱在接受路透社采訪時指出，ASML目前向中國銷售的DUV光刻機，是基于ASML在2015年開發(fā)的技術平臺，已經落后了11年。進一步收緊對華制裁，只會繼續(xù)加速中國研發(fā)自主設備的步伐。

存亡時期

富凱在訪談中，還用到了一個更加具象化的比喻來形容如今的中國半導體產業(yè)。富凱表示，如果我把你放在沙漠里，并且告訴你以后再也沒有食物來源了，你只有一些老舊的材料工具，那么你需要多久才能自己開墾出一塊菜園？這是一個存亡問題。

根據(jù)ASML投資者交流文件顯示，2013年ASML首次出貨了NXT：1970i，2016年首次出貨了NXT：1980i。這兩款浸潤式光刻機的區(qū)別就是在對準精度和制造效率上面進行了升級，對準精度越高，制造效率越高，支持的制程工藝也就越先進。

并且這些較為成熟的浸潤式光刻機，是大規(guī)模制造成熟芯片的核心設備，不但可以制造28nm及以上工藝的平面晶體管芯片，還可以通過多重曝光的方法制造14nm及以下具有Fin FET立體晶體管結構的芯片。

在美國的壓力下，荷蘭政府已經先后撤銷了ASML NXT：2000i及以上浸潤式光刻機的對華出口，并且還針對中國大陸地區(qū)先進制程的晶圓廠封鎖了NXT：1970i及以上設備。

而美國4月份推進的match法案，則是在之前的基礎上進一步實施封鎖，對中芯國際、華虹、長江存儲、長鑫存儲、華為這5家中國企業(yè)實施完全體的制裁封鎖，禁止ASML將所有型號的浸潤式光刻機出口給這些中國企業(yè)。

最開始荷蘭對于美國的match法案表示拒絕評論，但是前段時間荷蘭政府公開宣布對美國的match法案表示抗議，認為該法案存在嚴重不合理性，這是在影響ASML的正常運營和全球半導體產業(yè)的穩(wěn)定性。

2025年，中國大陸市場為ASML貢獻了33%的總營收。受出口管制的影響，ASML預計2026年中國大陸市場的營收占比將會下滑到20%。

為保持經濟增長趨勢，ASML選擇與印度的塔塔電子合作，為印度正在建設的12英寸晶圓廠提供DUV光刻機，用于制造28nm及以上工藝的成熟芯片。

而中國半導體產業(yè)的發(fā)展趨勢仍然沒有改變，以自主可控為大方向，推動國產技術的規(guī)模化應用。如今中國先進芯片的規(guī)?；圃煲蕾囉诖饲皬腁SML采購的DUV光刻機，國產的浸潤式光刻機已經進入工藝測試階段，目前還不具備直接在生產線上替代ASML浸潤式的能力。

從干式技術到浸潤式技術的升級，這是在美國制裁的迫使下出現(xiàn)的技術跨越。截止到目前為止，從已公布的信息來看，全球只有四家企業(yè)擁有浸潤式光刻機的制造能力，荷蘭ASML、日本尼康和佳能、中國上微。

技術差距

雖然中國自主的浸潤式光刻機以及EUV光刻機并未實現(xiàn)規(guī)模化應用，但是有一點可以確定，中國在芯片產業(yè)的技術進步很快，并且正在大幅度縮短與國際水平的差距。

ASML前任CEO彼得·溫寧克，早在多年前的采訪中就表示過，美國越是制裁中國，中國就越有可能開發(fā)出與ASML匹敵的自主光刻機設備。

并且ASML現(xiàn)任CEO富凱，在接受荷蘭《電訊報》采訪時表示，西方國家認為必須要保持對中國技術的領先，拉開雙方的差距，所以便通過出口管制的方法，試圖切斷中國企業(yè)與國際供應鏈之間的合作關系，從而壓制中國自主技術的發(fā)展。

但是關鍵問題在于，這個技術差距到底需要被拉開多大距離。技術差距可以有，但是不能無限擴大，否則中國企業(yè)將會研發(fā)自己的制造設備，擺脫困境。

隨后富凱在接受彭博社專訪時又指出，應該適度向中國企業(yè)輸出技術設備，以防止其自主研發(fā)形成競爭力。中國企業(yè)不會接受在技術上面被卡脖子的處境，必然會謀求技術進步，這是一個沒有爭議的事實。

現(xiàn)在來看，ASML前CEO多年前表達的擔憂是對的。買不到先進的進口設備，那么只能選擇自己開發(fā)。盡管研發(fā)自主設備是一個漫長且困難的過程，但是最終會達到目標。