前沿導(dǎo)讀
美籍華裔數(shù)學(xué)家、中科院外籍院士丘成桐在訪談中指出,我們不停地在解決卡脖子問(wèn)題,但是在被別人卡脖子的時(shí)候,你也是跟著人家的思路走,這樣永遠(yuǎn)解決不了卡脖子的問(wèn)題。你解決的只是別人給你創(chuàng)造的問(wèn)題,而不是自己創(chuàng)造的問(wèn)題,要想辦法創(chuàng)造自己的技術(shù)路線。
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基礎(chǔ)問(wèn)題
丘成桐院士認(rèn)為,當(dāng)下解決卡脖子問(wèn)題屬于被動(dòng)應(yīng)對(duì),解決了這個(gè)問(wèn)題,對(duì)方還會(huì)對(duì)下一個(gè)環(huán)節(jié)進(jìn)行限制。想要擺脫這種被動(dòng)局面,只有在基礎(chǔ)體系之上進(jìn)行創(chuàng)新,才能在根源上解決受制于人的情況。
據(jù)《清華大學(xué)建設(shè)處》發(fā)布的資料顯示,丘成桐院士在“人文清華”講壇節(jié)目中表示中國(guó)科研人員過(guò)于習(xí)慣回答問(wèn)題,很少去主動(dòng)提出問(wèn)題,這個(gè)情況一定要改變。提出一個(gè)好問(wèn)題,就仿佛是長(zhǎng)江流域里的一塊大石頭,當(dāng)你提出問(wèn)題并解決問(wèn)題之后,這塊石頭被挪開(kāi),水流會(huì)變得通暢。甚至解決一個(gè)大問(wèn)題后,還可以順便解決行業(yè)內(nèi)的許多其他問(wèn)題。
參考資料:
“人文清華”講壇 | 丘成桐:中國(guó)要培養(yǎng)大數(shù)學(xué)家,提出重要問(wèn)題是關(guān)鍵-清華大學(xué)-文科建設(shè)處
丘成桐院士所說(shuō)的情況是客觀存在的,典型例子就是芯片制造領(lǐng)域的浸潤(rùn)式技術(shù)。
浸潤(rùn)式技術(shù)的發(fā)明人是前臺(tái)積電副總經(jīng)理林本堅(jiān),林本堅(jiān)是典型的基礎(chǔ)科研人員,其主要鉆研的領(lǐng)域是光學(xué)成像。依托于集成電路產(chǎn)業(yè)的商業(yè)化發(fā)展,林本堅(jiān)早年在美國(guó)IBM任職,隨后回到中國(guó)臺(tái)灣加入臺(tái)積電,退休之后在臺(tái)灣清華大學(xué)擔(dān)任講座教授。
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在臺(tái)積電任職期間,全球芯片產(chǎn)業(yè)進(jìn)入到了技術(shù)瓶頸,光刻機(jī)的照明波長(zhǎng)被卡在了193nm,無(wú)法向下發(fā)展。佳能、尼康選擇走傳統(tǒng)路線,試圖通過(guò)提升硬件配置讓光線波長(zhǎng)縮短至157nm。
而林本堅(jiān)則是通過(guò)光線過(guò)水折射的原理,推導(dǎo)出了在光源的后方加入超純水當(dāng)做介質(zhì),光源打到超純水中形成折射效應(yīng),193nm的波長(zhǎng)被成功縮短為134nm,直接解決了困擾全球芯片制造業(yè)的技術(shù)瓶頸。
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林本堅(jiān)將該技術(shù)理論稱之為浸潤(rùn)式,他拿著浸潤(rùn)式技術(shù)找到尼康和佳能尋求合作,但是尼康和佳能已經(jīng)在傳統(tǒng)路線上面投入太多資源,不想放棄,同時(shí)也并不相信林本堅(jiān)一個(gè)人能解決困擾全球產(chǎn)業(yè)的技術(shù)難題,于是便謝絕了合作。
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僅次于佳能、尼康的光刻機(jī)企業(yè)是荷蘭的ASML,這個(gè)時(shí)候ASML已經(jīng)憑借著PAS系列光刻機(jī)搶占到了一定規(guī)模的市場(chǎng),但無(wú)法與技術(shù)儲(chǔ)備極強(qiáng)的日本企業(yè)競(jìng)爭(zhēng)。
臺(tái)積電是ASML的客戶之一,林本堅(jiān)通過(guò)臺(tái)積電的關(guān)系找到ASML尋求合作, ASML為趕超日本企業(yè),選擇采用林本堅(jiān)的浸潤(rùn)式技術(shù)制造新一代的DUV光刻機(jī)。
2008年12月,ASML在日本半導(dǎo)體展會(huì)上面公開(kāi)宣布旗下首款浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī)TWINSCAN NXT:1950i已實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),2009年上半年進(jìn)行交付。該設(shè)備是跨時(shí)代的產(chǎn)品,具備雙工作臺(tái)系統(tǒng),每小時(shí)可以處理200片晶圓,最高支持22nm制程的芯片制造。
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參考資料:
- ASML launches TWINSCAN NXT:1950i immersion lithography system | ASMLASML Logo
浸潤(rùn)式技術(shù)是ASML稱霸光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)的開(kāi)始,一切源頭都是因?yàn)榱直緢?jiān)通過(guò)加入水作為介質(zhì),解決了困擾行業(yè)多年的技術(shù)難題。
深度融合
據(jù)《中國(guó)經(jīng)濟(jì)網(wǎng)》新聞指出,基礎(chǔ)學(xué)科對(duì)于科技產(chǎn)業(yè)至關(guān)重要,國(guó)產(chǎn)EDA企業(yè)巨霖科技的董事長(zhǎng)孫家鑫對(duì)媒體表示,EDA軟件作為集成電路行業(yè)產(chǎn)業(yè)皇冠上的“明珠”,其最底層的核心算法處處體現(xiàn)出與計(jì)算數(shù)學(xué)、應(yīng)用數(shù)學(xué)的深度融合。
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想要解決卡脖子的問(wèn)題,就必須從數(shù)學(xué)底層入手,公司圍繞網(wǎng)格和矩陣求解兩個(gè)底層技術(shù),全部采用自主研發(fā)模式,為后續(xù)的發(fā)展奠定基礎(chǔ)。
幾何引擎也是被卡脖子的技術(shù)之一,該技術(shù)是CAD、CAE、CAM等工業(yè)軟件體系的核心組件,其主要內(nèi)容也都與數(shù)學(xué)等基礎(chǔ)產(chǎn)業(yè)學(xué)科有關(guān)。
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參考資料:
多行業(yè)以數(shù)學(xué)“求解”產(chǎn)業(yè)卡脖子難題 - 教育 - 中國(guó)產(chǎn)業(yè)經(jīng)濟(jì)信息網(wǎng)
從根源解決卡脖子問(wèn)題,需要進(jìn)行全鏈路體系的科技攻關(guān)。
針對(duì)全鏈路的發(fā)展體系,我國(guó)在制定的十五五規(guī)劃建議當(dāng)中明確表示,卡脖子的根本就是基礎(chǔ)理論的研究跟不上,源頭和底層的東西沒(méi)有搞清楚。
核心技術(shù)的攻關(guān)絕不能是簡(jiǎn)單的模仿性創(chuàng)新,這樣只會(huì)陷入“追趕-落后-再追趕”的循環(huán),必須加強(qiáng)原始創(chuàng)新和顛覆性創(chuàng)新,從根本上解決原理性、基礎(chǔ)性問(wèn)題,在新一輪的科技革命當(dāng)中搶占先機(jī)。
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