美國(guó)把對(duì)中國(guó)光刻機(jī)的限制拉滿(mǎn),從最頂尖的EUV到所有DUV浸沒(méi)式全給禁了,這段時(shí)間外界都在猜,中國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)到底接不接得住?荷蘭當(dāng)?shù)氐目萍济襟w最早捅出一個(gè)料,說(shuō)咱們?cè)缭诙嗄昵熬吐裣路P,囤的光刻機(jī)就算完全斷買(mǎi),撐個(gè)五到十年一點(diǎn)問(wèn)題都沒(méi)有。
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這個(gè)說(shuō)法可不是空口造謠,看ASML自己的公開(kāi)財(cái)報(bào)就能實(shí)錘。中國(guó)這些年買(mǎi)ASML設(shè)備的力度,從數(shù)據(jù)就能直觀看出來(lái)。2021年中國(guó)大陸占ASML總銷(xiāo)量16%,2022年14%,2023年開(kāi)始占比一路往上走。到2023年底,ASML賣(mài)給中國(guó)的光刻機(jī)加熱度量測(cè)設(shè)備已經(jīng)差不多1400臺(tái)。
2023到2024這兩年中國(guó)企業(yè)買(mǎi)的光刻機(jī),比之前五年加起來(lái)還多。2024年中國(guó)直接成了ASML全球第一大客戶(hù),占了總出貨量的41%。2025年買(mǎi)走的光刻機(jī)金額更是達(dá)到80.1億歐元,占ASML所有光刻機(jī)銷(xiāo)量的33%。
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ASML首席財(cái)務(wù)官早就明說(shuō),之前中國(guó)企業(yè)訂的設(shè)備都陸續(xù)交付完成,2026年中國(guó)市場(chǎng)占比會(huì)回落到20%左右。現(xiàn)實(shí)走勢(shì)也跟預(yù)判的一模一樣,2026年一季度,中國(guó)大陸市場(chǎng)占比直接從去年四季度的超三分之一掉到19%,進(jìn)口金額一個(gè)季度就銳減了約120億元。韓國(guó)順勢(shì)超越中國(guó),成了ASML當(dāng)前全球最大市場(chǎng),一年前還是最大金主,轉(zhuǎn)頭就掉到了第三。
很多人會(huì)問(wèn),現(xiàn)在最先進(jìn)的EUV買(mǎi)不到,就靠浸潤(rùn)式DUV,能造出合格的好芯片嗎?其實(shí)業(yè)內(nèi)都清楚,EUV決定芯片制程的天花板,DUV能穩(wěn)住產(chǎn)業(yè)的基本盤(pán)。EUV這條路暫時(shí)走不通,沒(méi)必要硬撞南墻,換個(gè)思路先穩(wěn)住也沒(méi)什么不對(duì)。
荷蘭媒體提到,咱們手里攢了這么多浸潤(rùn)式DUV,用好多重曝光技術(shù),其實(shí)就能造出5nm甚至更先進(jìn)制程的芯片。雖說(shuō)成本比EUV直接做要高,良率也差一點(diǎn),但至少中高端芯片不會(huì)斷供。就算以后買(mǎi)不到新進(jìn)口設(shè)備,靠之前囤的也能繼續(xù)生產(chǎn),售后被卡脖子,咱們就自己建技術(shù)團(tuán)隊(duì)維護(hù),夠用了。
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這根本不是恐慌性搶貨,是一場(chǎng)提前好幾年就規(guī)劃好的精準(zhǔn)戰(zhàn)略布局。手里握著這些設(shè)備,未來(lái)五到十年就算徹底斷供,晶圓廠能正常運(yùn)轉(zhuǎn),芯片能正常生產(chǎn),剛好給國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)留足了成長(zhǎng)緩沖期,慢慢從28nm往更先進(jìn)制程突破。
現(xiàn)在國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的進(jìn)度,比很多網(wǎng)友想的要快得多,多點(diǎn)開(kāi)花的局面已經(jīng)形成。上海微電子的28nm浸沒(méi)式光刻機(jī)已經(jīng)進(jìn)入工藝驗(yàn)證階段,2026年4月浙江大學(xué)研發(fā)出萬(wàn)通道3D納米激光直寫(xiě)光刻機(jī),測(cè)量精度可達(dá)亞30納米。納米壓印領(lǐng)域,國(guó)內(nèi)設(shè)備已經(jīng)完成10nm級(jí)自主交付。
核心零部件環(huán)節(jié)也不斷傳來(lái)好消息,華卓精科的磁懸浮雙工件臺(tái)、科益虹源的193納米準(zhǔn)分子激光器,都拿到了關(guān)鍵突破。薄膜沉積、蝕刻、激光器這類(lèi)輔助環(huán)節(jié),國(guó)產(chǎn)設(shè)備的覆蓋率也在逐步提升。照這個(gè)勢(shì)頭走下去,再給中國(guó)幾年時(shí)間,就能逐步實(shí)現(xiàn)全鏈條自主。
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EUV領(lǐng)域也不是毫無(wú)進(jìn)展,去年年底深圳已經(jīng)組裝出原型機(jī),跑通了初步試驗(yàn)。國(guó)內(nèi)某光學(xué)研究所自主研發(fā)的EUV光源模擬器,11億元的產(chǎn)線(xiàn)已經(jīng)投入試運(yùn)行,雖然和ASML的商用標(biāo)準(zhǔn)還有差距,但足夠支撐原型機(jī)通過(guò)關(guān)鍵測(cè)試。還有國(guó)內(nèi)廠商從國(guó)際市場(chǎng)引進(jìn)頂尖研發(fā)人員,搭起了完整的投影物鏡研發(fā)團(tuán)隊(duì),雖說(shuō)離量產(chǎn)還遠(yuǎn),關(guān)鍵的一步已經(jīng)邁出去了。
美國(guó)想從買(mǎi)、用、修三個(gè)環(huán)節(jié)徹底封堵中國(guó),可封鎖越狠,反噬來(lái)得越快。歐洲現(xiàn)在已經(jīng)有人提議,要是美國(guó)繼續(xù)加征關(guān)稅,就限制ASML向美國(guó)出口光刻機(jī)。更何況咱們手里握著稀土這張王牌,ASML的光刻機(jī)離不開(kāi)稀土,全球九成的稀土精煉能力都在中國(guó),誰(shuí)也離不開(kāi)誰(shuí)。
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咱們現(xiàn)在其實(shí)還處在黎明前的黑暗,這段時(shí)間必須沉下心往下扎根。囤夠五到十年的光刻機(jī),說(shuō)白了就是給自己留了至少五年的緩沖期,也說(shuō)明五年內(nèi)實(shí)現(xiàn)獨(dú)立浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī)的量產(chǎn)普及,難度確實(shí)不小。光刻機(jī)哪怕是一個(gè)不起眼的小零件,都牽扯到多國(guó)頂尖技術(shù),比如ASML用的頂級(jí)蔡司鏡片,就有美國(guó)技術(shù)參與。
高精度零部件領(lǐng)域,國(guó)產(chǎn)設(shè)備和國(guó)際頂尖水平還有十到二十年的差距,咱們現(xiàn)在靠自己勉強(qiáng)能搞定90納米制程,離世界最先進(jìn)水平還有不小距離。EUV就更不用說(shuō)了,人家已經(jīng)能量產(chǎn)7納米以下芯片,咱們連14納米的完全自主化都還沒(méi)搞定。
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美國(guó)把制裁加碼到不講理的程度,反倒把國(guó)產(chǎn)替代逼到了極限,按照現(xiàn)在的研發(fā)速度,五到十年內(nèi)國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)肯定會(huì)越來(lái)越爭(zhēng)氣。ASML現(xiàn)任CEO接受彭博社專(zhuān)訪(fǎng)時(shí)都坦言,應(yīng)該適度向中國(guó)輸出技術(shù),防止中國(guó)自主研發(fā)形成競(jìng)爭(zhēng)力,中國(guó)這么大的國(guó)家,不可能接受被卡脖子,肯定會(huì)想辦法突破。
西方過(guò)去一直看低中國(guó)的研發(fā)速度,最早說(shuō)中國(guó)就算拿到圖紙也造不出來(lái),后來(lái)改口說(shuō)二十年追不上,再后來(lái)改成十五年,現(xiàn)在都覺(jué)得中國(guó)十年就能造出EUV,這本身就是西方在重新評(píng)估中國(guó)芯片的突圍速度。
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科技產(chǎn)業(yè)突破,十年本來(lái)就是一個(gè)完整的產(chǎn)業(yè)周期。第一個(gè)三年是從無(wú)到有做原理突破,第二個(gè)三年啃核心零部件的硬骨頭,最后四年做整體設(shè)備的集成迭代,磨產(chǎn)品良率,哪一步都省不了時(shí)間和投入。
這個(gè)過(guò)程注定漫長(zhǎng)又艱難,現(xiàn)在整個(gè)行業(yè)都在咬著牙往前走,囤貨穩(wěn)產(chǎn)能,攻技術(shù)缺口,補(bǔ)全自主產(chǎn)業(yè)鏈的各個(gè)環(huán)節(jié)。等到哪天咱們真的實(shí)現(xiàn)EUV光刻機(jī)量產(chǎn),整個(gè)全球半導(dǎo)體格局都會(huì)迎來(lái)大轉(zhuǎn)變。
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在那一天到來(lái)之前,就是一段沉下心扎根的日子,付出很多努力暫時(shí)沒(méi)看到結(jié)果沒(méi)關(guān)系,只要全產(chǎn)業(yè)鏈齊心往一處使勁,中國(guó)半導(dǎo)體突圍的那天,早晚都會(huì)來(lái)。
參考資料:人民日?qǐng)?bào) 中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)自主創(chuàng)新觀察
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