ASML，2nm光刻機滯銷：中國市場禁售，臺積電不要

本想卡中國的脖子，結果斷了自己的財路，光刻機巨頭阿斯麥的CEO，現在可能心涼了半截，因為它最新一代2納米光刻機，被臺積電拒購了！

這下阿斯麥尷尬了，對大陸這邊，ASML按照美國拋出的MATCH法案，從過去禁最頂尖的EUV光刻機，到現在直接擴大到所有DUV浸沒式光刻機，把EUV到DUV全部封鎖了，但是阿斯麥卻發現，把最大的客戶拒之門外，現在EUV卻不好賣了。

大陸這邊，連老款的EUV極紫外光刻機都買不到，而臺積電呢？可以購買全球最先進的最新型2納米光刻機，卻選擇不買。

臺積電不要，阿斯麥2nm光刻機賣給誰？

在 4 月 22 日的論壇上，張曉強說得很實在：“我們仍然能夠從現有 EUV 設備中獲益，下一代 High-NA EUV 設備非常非常貴。” 這番話背后，是臺積電經過深思熟慮的商業決策，絕非一時沖動。

對于臺積電來說，建設一條 2nm 產線總投資約 300 億美元，其中光刻機采購成本占比超過 40%，如果全面采用 High-NA EUV，僅設備采購一項就將增加數十億美元的支出。更關鍵的是，這還不是一次性投入，后續的維護、升級、耗材成本同樣高得驚人。

臺積電在現有 EUV 技術上找到了新的突破路徑。張曉強透露，臺積電研發團隊通過多重曝光技術和光源功率提升，已經能夠從現有 EUV 設備中壓榨出更多潛力，足以支撐其 A13、A14 等先進制程的研發和量產需求。

ASML 最新推出的 1000 瓦光源技術更讓臺積電看到了希望 —— 這種技術能讓現有 EUV 設備每小時多處理 110 片晶圓，芯片產量直接提升 50%，成本卻能顯著降低。在這種情況下，花費近 3 倍的價格購買新一代設備，從投資回報率角度看確實不劃算。

再者，市場需求也讓臺積電保持謹慎。雖然 AI 芯片需求持續火爆，但 2nm 及以下制程的市場規模目前仍相對有限，且主要集中在高端手機處理器和 AI 加速器領域。

臺積電現有的 EUV 產能已經能夠滿足當前市場需求，過早投入 High-NA EUV 反而可能造成產能閑置。張曉強明確表示，臺積電最先進的 A13 芯片將于 2029 年投入生產，在此之前，現有 EUV 設備完全能夠支撐公司的技術路線圖。

值得注意的是，臺積電的決定并非孤例。全球第二大芯片制造商三星雖然對 High-NA EUV 表現出興趣，但也只是小規模采購用于研發，并未宣布大規模量產計劃。英特爾倒是計劃成為第一家使用該設備的公司，以開發其 14A 芯片，但英特爾在先進制程領域的市場份額和產能規模遠不及臺積電，對 ASML 來說只能算是 “杯水車薪”。

如果說臺積電的拒購讓 ASML 感到頭疼，那么中國市場的全面封鎖則讓這家荷蘭巨頭陷入了更深的困境。2026 年 3 月 11 日，荷蘭外交大臣在議會公開宣布的新管制條例，堪稱半導體設備出口史上最嚴厲的禁令之一。

在此之前，ASML 對中國的出口限制主要集中在 EUV 光刻機上，DUV 光刻機（包括浸沒式）仍可正常出口。但新條例直接將管制范圍擴大到所有浸沒式 DUV 光刻機，覆蓋 28nm、45nm 甚至部分 65nm 的成熟制程設備，而且沒有任何過渡期，申訴、商量的門路全被堵死。

更狠的是，條例還禁止為中國境內現有設備提供安裝、維修、軟件更新和技術支持等售后服務，意味著中國企業之前購買的數百臺 ASML DUV 設備將面臨 “用壞一臺少一臺” 的尷尬局面。

這一禁令的背后，是美國《MATCH 法案》（《硬件技術控制多邊協調法案》）的持續施壓。該法案由美國兩黨議員于 2026 年 4 月初正式提交至眾議院，旨在將對華技術封鎖制度化、長期化。

雖然法案在后續審議中縮減了部分爭議條款，但保留了對 ASML 浸沒式 DUV 光刻機的對華出口限制，同時針對中芯國際、長江存儲、長鑫存儲等中國五大芯片企業實施精準打擊。

對于 ASML 來說，中國市場曾經是其重要的增長引擎。2025 年，中國市場占 ASML 總營收的比重約為 15%，其中 DUV 光刻機貢獻了大部分收入。

隨著中國芯片產業的快速發展，中芯國際、長江存儲等企業對先進光刻機的需求持續增長，原本有望成為 High-NA EUV 的重要客戶群。但現在，這條財路被徹底切斷了。

更讓 ASML 無奈的是，這種封鎖是 “殺敵一千，自損八百” 的做法。中國是全球最大的芯片消費市場，占全球芯片需求的近 40%。失去中國市場，不僅意味著 ASML 損失了大量訂單，還可能導致其研發投入無法收回，進而影響整個半導體產業鏈的創新節奏。

有分析師估算，僅 DUV 光刻機對華禁售一項，就可能導致 ASML 2026 年營收減少 8-10 億歐元。

面對臺積電的拒購和中國市場的封鎖，ASML 并非坐以待斃。這家光刻機巨頭正在積極調整策略，試圖在困境中尋找新的出路。

首先，ASML 調整了 High-NA EUV 的產能規劃。公司首席財務官戴厚杰在 2026 年一季度財報電話會議上表示，將降低 2027-2028 年 High-NA EUV 的出貨預期，同時加大對現有 Low-NA EUV 設備的產能投入，計劃 2026 年出貨至少 60 臺，2027 年提升至 80 臺。這種調整既符合市場需求的實際情況，也能避免產能過剩帶來的風險。

ASML 開始積極尋找新的客戶。除了英特爾和三星，ASML 將目光投向了全球其他芯片制造商，如 SK 海力士、美光科技等存儲芯片企業，以及格芯、聯電等晶圓代工廠。

不過，這些企業對 High-NA EUV 的需求同樣有限 —— 存儲芯片企業更關注成本效益，而格芯、聯電等廠商在先進制程領域的投入相對保守。

再者，ASML 加大了技術創新力度，試圖通過提升產品性能來吸引客戶。

公司最新推出的 High-NA EUV 設備采用 0.55 數值孔徑設計，能夠將掩模從 3 塊減至 1 塊、工藝步驟從 100 步壓縮至 10 步，大幅提升生產效率。同時，ASML 正在研發 1000 瓦光源技術，該技術能

讓 High-NA EUV 設備的產能提升 50%，進一步降低客戶的單位成本。

此外，ASML 還在積極游說荷蘭政府和美國政府，希望能夠放寬對華出口限制。公司首席執行官克里斯托夫?富凱多次公開表示，半導體產業是全球化產業，過度的出口管制不僅損害 ASML 的利益，也會影響全球供應鏈的穩定。不過，在當前地緣政治緊張的背景下，這種游說的效果可能十分有限。

對于 ASML 來說，眼前的困境既是挑戰也是機遇。如果能夠成功化解這次危機，這家光刻機巨頭將進一步鞏固其在全球半導體設備領域的壟斷地位；但如果應對不當，可能會給其他競爭對手留下可乘之機，甚至影響其未來的技術研發和市場拓展。

2026 年的半導體行業正經歷著一場深刻的變革，ASML 的 2nm 光刻機困局只是這場變革的一個縮影。

在技術進步和地緣政治的雙重影響下，全球半導體產業鏈正在重新洗牌，而每一個參與者都必須在這場變革中找到自己的定位，才能在激烈的市場競爭中立于不敗之地。

對于 ASML 來說，如何平衡商業利益和政治壓力，如何在失去最大客戶和最大市場的情況下保持增長，將是其未來幾年面臨的最大挑戰。

信息來源：

觀察者網：臺積電：阿斯麥最新光刻機太貴了，暫無使用計劃

第一財經：未采用阿斯麥最新光刻機，臺積電2029年量產A12和A13制程