江蘇
2026年頭兩個(gè)月，中國(guó)海關(guān)的進(jìn)口數(shù)據(jù)里出現(xiàn)了一個(gè)值得注意的變化。
從日本進(jìn)口的高端光刻膠，報(bào)關(guān)量為零。
不是價(jià)格波動(dòng)，不是數(shù)量減少，是一單都沒(méi)有。
這個(gè)數(shù)據(jù)的背景需要往前追溯。2025年11月，日本經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)省正式將高端光刻膠納入出口管制清單。對(duì)華供應(yīng)配額直接縮減近三成，出口審批周期從30天延長(zhǎng)到90天，110家中國(guó)半導(dǎo)體相關(guān)企業(yè)被列入重點(diǎn)核查范圍。
從收緊手續(xù)到實(shí)際停供，中間不到三個(gè)月。
這件事之所以值得拿出來(lái)分析，不是因?yàn)樗卸嗤蝗弧６撬岩粋€(gè)長(zhǎng)期以來(lái)被公眾討論較少、但在產(chǎn)業(yè)鏈上極其關(guān)鍵的問(wèn)題，擺到了桌面上。
被忽略的卡脖子環(huán)節(jié)
提到芯片制造的“卡脖子”，大多數(shù)人的第一反應(yīng)是光刻機(jī)。荷蘭的ASML、極紫外光源、多重曝光技術(shù)，這些詞在過(guò)去幾年里反復(fù)出現(xiàn)。
光刻機(jī)確實(shí)難造，這一點(diǎn)沒(méi)有爭(zhēng)議。
但在芯片制造流程中，還有一個(gè)環(huán)節(jié)同樣要命，卻很少進(jìn)入大眾討論的視野。
光刻膠。
它的作用可以這樣理解：芯片制造需要把設(shè)計(jì)好的電路圖案轉(zhuǎn)移到硅片上，光刻膠就是實(shí)現(xiàn)這個(gè)轉(zhuǎn)移的核心介質(zhì)。涂在晶圓表面，經(jīng)過(guò)光刻機(jī)光線照射后發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，圖案才能印上去。
沒(méi)有光刻膠，再先進(jìn)的光刻機(jī)照在硅片上，什么痕跡都留不下。
從成本結(jié)構(gòu)來(lái)看，在先進(jìn)制程中，光刻工藝占整個(gè)芯片制造成本的30%到40%。而在晶圓制造材料成本里，光刻膠及其配套試劑占了12%到15%。
這不是輔料，是核心耗材。
還有一個(gè)關(guān)鍵特性：光刻膠的保質(zhì)期通常只有6到9個(gè)月。它不能像普通工業(yè)原料那樣大規(guī)模長(zhǎng)期囤貨。2021年日本信越化學(xué)工廠因地震短暫停產(chǎn)，全球光刻膠供應(yīng)立刻緊張，國(guó)內(nèi)多家晶圓廠生產(chǎn)線被迫降載運(yùn)行，價(jià)格一度翻了數(shù)倍。
這個(gè)特性決定了光刻膠供應(yīng)鏈的容錯(cuò)率極低。一旦斷供，不是利潤(rùn)高低的問(wèn)題，是產(chǎn)線還能不能轉(zhuǎn)起來(lái)的問(wèn)題。
日本手里的牌有多大
全球高端光刻膠市場(chǎng)的競(jìng)爭(zhēng)格局，可以用一組數(shù)據(jù)來(lái)概括。
東京應(yīng)化、JSR、信越化學(xué)、富士膠片，四家日本企業(yè)合計(jì)占據(jù)了全球92%的高端光刻膠市場(chǎng)份額。
其中用于28納米到7納米制程的ArF光刻膠，日本企業(yè)占比超過(guò)87%。
用于7納米以下最尖端制程的EUV光刻膠，全球供給接近100%來(lái)自日本。
臺(tái)積電3納米、2納米芯片所用的光刻膠，基本由東京應(yīng)化獨(dú)家供應(yīng)。
再看國(guó)內(nèi)的情況。KrF光刻膠整體國(guó)產(chǎn)化率大約3%，ArF光刻膠不足1%，EUV光刻膠幾乎為零。
這個(gè)差距不是“落后幾年”的概念，是數(shù)量級(jí)的差距。
那么問(wèn)題來(lái)了：光刻機(jī)都有人敢喊“十年攻克”，光刻膠憑什么被日本壟斷這么久？
答案不在某一個(gè)技術(shù)點(diǎn)上，而在一套環(huán)環(huán)相扣的體系里。
三個(gè)壁壘，構(gòu)成一個(gè)閉環(huán)
第一個(gè)是配方壁壘。
光刻膠不是幾種化學(xué)原料的簡(jiǎn)單混合。它是幾十種組分的納米級(jí)精密組合，雜質(zhì)要求控制在十億分之一以下。多一絲雜質(zhì)，芯片良率就可能從90%跌到60%。
日本企業(yè)手里握著全球63%的光刻膠相關(guān)專利，積累了數(shù)十年的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)和工藝參數(shù)。哪些組合在特定溫度下保持穩(wěn)定，哪種配方跟哪款光刻機(jī)適配，這些都是用時(shí)間和金錢堆出來(lái)的。
新進(jìn)入者從零起步，光試錯(cuò)就需要十年以上。
第二個(gè)是驗(yàn)證壁壘。
光刻膠造出來(lái)只是第一步，更難的在后頭。它必須經(jīng)過(guò)晶圓廠兩到三年的長(zhǎng)期產(chǎn)線驗(yàn)證，期間要反復(fù)調(diào)整配方，一分錢收入沒(méi)有還要持續(xù)投入成本。
而全球主流晶圓廠跟日本供應(yīng)商已經(jīng)綁定了數(shù)十年，產(chǎn)線工藝參數(shù)全部圍繞日本產(chǎn)品調(diào)校。晶圓廠沒(méi)有動(dòng)力、也沒(méi)有時(shí)間去給新供應(yīng)商當(dāng)試驗(yàn)場(chǎng)。
產(chǎn)品沒(méi)人用，就沒(méi)法在真實(shí)產(chǎn)線上打磨性能。沒(méi)法打磨性能，就永遠(yuǎn)進(jìn)不了供應(yīng)鏈。
這是一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)的死循環(huán)。
第三個(gè)是產(chǎn)業(yè)鏈閉環(huán)。
光刻膠性能的70%由核心原料決定。高純度樹脂、光敏劑這些關(guān)鍵原料，90%以上的供應(yīng)同樣掌握在日本企業(yè)手中。
不止原料。日本企業(yè)還跟ASML的光刻機(jī)深度綁定，聯(lián)合開發(fā)適配方案。配方做出來(lái)了，但如果跟光刻機(jī)、晶圓廠的工藝參數(shù)不匹配，一樣是廢品。
配方、驗(yàn)證、原料、設(shè)備，日本在這個(gè)領(lǐng)域建的不僅是一堵墻，而是一個(gè)全產(chǎn)業(yè)鏈閉環(huán)。
斷供這張牌，雙方都未必敢打到底
先給一個(gè)判斷：日本大概率不會(huì)選擇徹底斷供高端光刻膠。
理由并不復(fù)雜。
中國(guó)是全球最大的半導(dǎo)體消費(fèi)市場(chǎng)，也是日本光刻膠最大的出口目的地。2025年上半年，日本對(duì)華出口的光刻膠占其總出口量的一半以上。
徹底斷供意味著日本企業(yè)自己砍掉一半營(yíng)收。幾百億日元的生意說(shuō)沒(méi)就沒(méi)了，JSR、東京應(yīng)化這些上市公司的股東不會(huì)答應(yīng)。
2019年日韓貿(mào)易摩擦可以作為一個(gè)參照。日本當(dāng)時(shí)限制光刻膠對(duì)韓國(guó)出口，三星的庫(kù)存只夠撐幾周，生產(chǎn)線面臨停擺風(fēng)險(xiǎn)。但即便在那種緊張程度下，日本也沒(méi)有徹底切斷供應(yīng)，只是收緊了審批流程。
對(duì)中國(guó)而言，2025年11月以來(lái)的管制收緊，本質(zhì)上是一種施壓手段。日本的算盤是卡住高端供給，拖慢中國(guó)先進(jìn)制程的爬坡速度，給自己留出戰(zhàn)略緩沖時(shí)間。
但這不等于可以高枕無(wú)憂。
國(guó)內(nèi)的牌，正在一張張翻開
過(guò)去五年，國(guó)內(nèi)在光刻膠方向上的投入力度，比外界看到的要大。
中低端的g線、i線光刻膠，國(guó)內(nèi)企業(yè)已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了相當(dāng)程度的自給。真正難啃的骨頭是KrF和ArF這兩個(gè)高端品類。
目前能看到幾個(gè)確定的進(jìn)展：
南大光電的ArF光刻膠已有六款產(chǎn)品通過(guò)客戶驗(yàn)證，2025年光刻膠業(yè)務(wù)收入突破兩千萬(wàn)，客戶覆蓋中芯國(guó)際、長(zhǎng)江存儲(chǔ)等頭部晶圓廠。
鼎龍股份在湖北潛江的二期項(xiàng)目——年產(chǎn)300噸KrF/ArF高端晶圓光刻膠量產(chǎn)線——已經(jīng)進(jìn)入即將試運(yùn)行的階段。
彤程新材子公司北京科華的多款KrF光刻膠產(chǎn)品已通過(guò)主流晶圓廠與存儲(chǔ)廠的認(rèn)證，進(jìn)入批量供貨階段。
上游原材料方向也有動(dòng)作。湖北三峽實(shí)驗(yàn)室送樣的光刻膠關(guān)鍵材料，核心性能參數(shù)已被第三方檢測(cè)報(bào)告認(rèn)定與國(guó)外供應(yīng)商處于同一水平。
資金層面，國(guó)家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金三期總規(guī)模1600億元，其中約18%的資金投向了光刻膠等半導(dǎo)體材料領(lǐng)域。
這些進(jìn)展放在一起，傳遞出的信號(hào)是：從“能不能做”到“能不能用”，這條路正在被一步一步走通。
一條新的路徑
還有一個(gè)方向值得關(guān)注。
2026年4月，上海的科研團(tuán)隊(duì)提出了一套用AI加速光刻膠材料設(shè)計(jì)的方案。傳統(tǒng)的光刻膠研發(fā)依賴“試錯(cuò)法”——把不同配方的樹脂和光敏劑組合起來(lái)，一個(gè)樣品一個(gè)樣品測(cè)試。周期長(zhǎng)、成本高、成功率低。
AI介入的邏輯是：用機(jī)器學(xué)習(xí)模型預(yù)測(cè)不同分子結(jié)構(gòu)的性能表現(xiàn)，在虛擬空間里先篩選一輪，縮小實(shí)驗(yàn)范圍。這套思路一旦跑通，研發(fā)效率有可能獲得顯著提升。
這不是用AI替代傳統(tǒng)研發(fā)路徑，而是多開一條路。光刻膠的國(guó)產(chǎn)化不可能靠單一手段完成，需要的是多方向并行推進(jìn)。
最后說(shuō)幾句
光刻膠這件事，本質(zhì)上是更底層命題的一個(gè)切片。
在供應(yīng)鏈被頻繁用作博弈工具的背景下，一個(gè)制造業(yè)大國(guó)對(duì)于“自主可控”的界定，需要想清楚兩件事：什么東西不必什么都自己造，但什么東西必須自己造。
光刻膠屬于后者。
它不是光刻機(jī)那樣的巨型工程系統(tǒng)，只是一瓶化學(xué)膠。但這瓶膠卡住的位置，是芯片制造流程中不可繞開的一環(huán)。
日本用四十年建起的技術(shù)壁壘和專利圍墻，不可能在三五年內(nèi)被全部翻過(guò)去。但方向已經(jīng)明確，路徑正在鋪開，產(chǎn)業(yè)鏈上每一個(gè)環(huán)節(jié)的突破都在積累勢(shì)能。
從2026年頭兩個(gè)月那批空白的報(bào)關(guān)數(shù)據(jù)，到國(guó)內(nèi)產(chǎn)線上一瓶瓶正在跑驗(yàn)證的國(guó)產(chǎn)膠，中間這段距離，就是接下來(lái)要走的路。
技術(shù)追趕沒(méi)有捷徑，但有加速度。關(guān)鍵不在于什么時(shí)候追上，而在于只要一直在追，差距就會(huì)越來(lái)越小。
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